光刻机深度：筚路蓝缕，寻光刻星火

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光刻机深度：筚路蓝缕，寻光刻星火

# 光刻机大小：3.58M | 页数：61 | 上架时间：2023-09-12 | 语言：中文

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类型: 专题

上传者: 资料分享客栈

撰写机构: 中航证券

出版日期: 2023-09-08

摘要：

光刻机由三大核心系统，数万个零件组成，是产业链各环节顶尖公司通力合作的成果。1）光源方面，DUV采用准分子激光器，技术掌握在Cymer和Gigaphoton手中，国内科益虹源打破垄断；EUV光源是通过高功率CO2激光器轰击Sn滴而来，高功率激光器为核心组件。2）光学系统是光刻机分辨率成像的保证，由照明系统和物镜系统构成，照明系统优化成像过程，实现分辨率增强；投影物镜系统将掩模图形聚焦成像，ZEISS为ASML关键光学元件独供商，国内技术水平仍有较大差距。3）双工件台系统有效提高了光刻精度与效率，国内华卓精科和清华大学团队走在前列。

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